開催日: 2019年11月7日木曜日
開催地: ジャーマンインダストリーパーク　〒226-0006　神奈川県横浜市緑区白山1-18-2
主催:ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
[プログラム(予定)]
  9:30  受付開始
  9:50  挨拶
10:00  Maskless Lithography[MLA150/MLA300/μMLA] by Heidelberg Instruments
10:45  描画データ処理・シュミレーションソフトウェアBEAMER及びLABのご紹介 by GenIsys
11:15  Introduction of Nagase Photolithography Material by ナガセケムテックス
12:00  昼休憩
13:00  ワークショップ @PAL-JP MLA150(満員御礼)
17:00  終了

お問い合わせ先
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社　営業部
sales@himt.co.jp 045-532-6955